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Intel usará máquinas de litografia da ASML para chips Panther Lake

A Intel adotará a tecnologia High NA EUV da ASML, avaliada em US$ 400 milhões por unidade, para fabricar seus novos processadores Panther Lake.

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15/07 às 05:15

Pontos principais

  • A Intel confirmou o uso das máquinas High NA EUV da ASML para a produção de chips de última geração.
  • Cada equipamento de litografia de alta precisão tem um custo estimado de US$ 400 milhões.
  • A tecnologia será aplicada especificamente na fabricação dos processadores Panther Lake para laptops.
  • A ASML mantém sua posição como fornecedora exclusiva de equipamentos de litografia extrema ultravioleta para o setor.

A Intel oficializou a integração das máquinas High NA EUV (Extreme Ultraviolet) da ASML em seu processo de fabricação de semicondutores. A tecnologia, que representa o que há de mais avançado em litografia para chips, será utilizada na produção dos processadores Panther Lake, destinados ao mercado de laptops. Cada unidade do equipamento possui um custo de aproximadamente US$ 400 milhões, refletindo o alto investimento necessário para a miniaturização de componentes eletrônicos. Esta decisão estratégica é um marco para a Intel, que busca recuperar sua competitividade tecnológica frente a rivais globais. Ao adotar o maquinário da ASML, a companhia pretende elevar a precisão e a eficiência de seus chips de ponta, consolidando a parceria com a fornecedora holandesa, que detém o monopólio global na fabricação dessas máquinas essenciais para a indústria de semicondutores.

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