MATCH Act suaviza restrições mas mantém proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China
Nova versão do projeto de lei americano remove curbs em ferramentas criogênicas mas proíbe litografia DUV para a China; votação na quarta.
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17/04 às 09:00
Pontos principais
- Versão revisada remove restrições a ferramentas de gravação criogênica da Lam Research e Tokyo Electron
- Proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China mantida
- Votação no comitê da Câmara marcada para quarta-feira
- Licenças exigidas para manutenção de equipamentos em instalações restritas
- Primeiro-ministro holandês discutiu tema com Trump em jantar na Casa Branca
A nova versão do MATCH Act, projeto de lei americano sobre controle de exportações de equipamentos para chips, suavizou as restrições da versão de início de abril mas mantém a proibição de venda dos equipamentos DUV (litografia ultravioleta profunda) da ASML à China. Restrições a ferramentas de gravação criogênica da Lam Research e Tokyo Electron foram removidas.
A votação no comitê da Câmara de Relações Exteriores está marcada para quarta-feira, junto com mais de uma dezena de outros projetos sobre IA, semicondutores e controles de exportação.
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