A nova versão do MATCH Act, projeto de lei americano sobre controle de exportações de equipamentos para chips, suavizou as restrições da versão de início de abril mas mantém a proibição de venda dos equipamentos DUV (litografia ultravioleta profunda) da ASML à China. Restrições a ferramentas de gravação criogênica da Lam Research e Tokyo Electron foram removidas.

A votação no comitê da Câmara de Relações Exteriores está marcada para quarta-feira, junto com mais de uma dezena de outros projetos sobre IA, semicondutores e controles de exportação.