MATCH Act bipartidário quer banir exportação de máquinas DUV para a China

O MATCH Act, projeto de lei bipartidário no Congresso americano, baniria a exportação de máquinas de litografia DUV (ultravioleta profundo) para a China — fechando a brecha que permitiu ao país adquirir centenas de máquinas da ASML, equivalentes a 36% das vendas da empresa no Q4 2025.

Atualmente apenas máquinas EUV são restritas. Importações chinesas de equipamentos de semicondutores saltaram de US$10,7 bilhões em 2016 para US$51,1 bilhões em 2025. Se aliados não adotarem restrições equivalentes, o projeto direcionaria o Departamento de Comércio a invocar o foreign direct product rule.