MATCH Act mantém proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China
Versão revisada do projeto de lei americano suavizou restrições, mas preserva o bloqueio à litografia ultravioleta profunda; votação no comitê marcada para quarta-feira.
Pontos principais
- Versão revisada do MATCH Act suaviza restrições mas mantém bloqueio a DUV da ASML
- Restrições a ferramentas de etch criogênico (Lam Research, Tokyo Electron) foram removidas
- Projeto proíbe vendas à SMIC e fabricantes de memória chinesas em instalações restritas
- Votação no comitê de Assuntos Exteriores da Câmara marcada para quarta-feira
- Premier holandês discutiu tema com Trump em jantar na Casa Branca
A nova versão do MATCH Act, projeto de lei americano sobre exportação de equipamentos de semicondutores, suavizou várias restrições da versão de início de abril, mas manteve a proibição de venda dos equipamentos de litografia ultravioleta profunda (DUV) da ASML à China.
As restrições a ferramentas de etch criogênico, produzidas pela Lam Research e pela Tokyo Electron, foram removidas. O projeto ainda proíbe vendas a fabricantes chinesas como a SMIC em instalações vetadas por Washington e exige licenças para manutenção de equipamentos nessas fábricas. A votação no comitê da Câmara está marcada para quarta-feira.
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