A nova versão do MATCH Act, projeto de lei americano sobre exportação de equipamentos de semicondutores, suavizou várias restrições da versão de início de abril, mas manteve a proibição de venda dos equipamentos de litografia ultravioleta profunda (DUV) da ASML à China.

As restrições a ferramentas de etch criogênico, produzidas pela Lam Research e pela Tokyo Electron, foram removidas. O projeto ainda proíbe vendas a fabricantes chinesas como a SMIC em instalações vetadas por Washington e exige licenças para manutenção de equipamentos nessas fábricas. A votação no comitê da Câmara está marcada para quarta-feira.