China inicia produção em massa de máquinas de litografia DUV

A China deu um passo importante em sua estratégia de autossuficiência tecnológica ao iniciar a produção em massa de máquinas de litografia ultravioleta profunda (DUV) por imersão. O projeto, conduzido pela estatal Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, busca contornar as severas restrições de exportação impostas por potências ocidentais, que impedem o acesso do país a equipamentos de ponta necessários para a fabricação de semicondutores avançados. A previsão é que as primeiras unidades sejam entregues a fabricantes locais, como SMIC e CXMT, ainda este ano, com uma meta de escala de 20 máquinas anuais até 2027.

Embora o movimento tenha gerado repercussão imediata no mercado financeiro, pressionando as ações da holandesa ASML, especialistas do setor mantêm cautela sobre o impacto comercial de curto prazo. Analistas destacam que a tecnologia chinesa ainda enfrenta gargalos significativos em termos de rendimento (yield) e confiabilidade operacional, além de depender de componentes importados do Japão. A tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV), essencial para os chips mais modernos do mercado, permanece fora do alcance da indústria chinesa, mantendo a liderança global da ASML preservada no segmento de alta complexidade.