China inicia produção em massa de máquinas de litografia DUV
O país busca reduzir a dependência tecnológica externa e fortalecer sua autossuficiência na fabricação de semicondutores avançados.
Pontos principais
- A estatal Shanghai Aishengna lidera o projeto de produção de máquinas de litografia ultravioleta profunda por imersão.
- A meta estabelecida pelo governo chinês é fabricar cinco unidades em 2026 e ampliar para 20 unidades em 2027.
- A iniciativa integra a estratégia nacional de autossuficiência tecnológica impulsionada pelo governo de Xi Jinping.
- Apesar do avanço, a produção chinesa ainda não representa uma ameaça comercial imediata à liderança global da holandesa ASML.
A China deu um passo significativo em sua estratégia de autossuficiência tecnológica ao iniciar a produção em massa de máquinas de litografia ultravioleta profunda por imersão (DUV). O projeto, conduzido pela estatal Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, visa diminuir a dependência do país em relação a fornecedores estrangeiros de equipamentos essenciais para a fabricação de chips avançados. A previsão é que a produção alcance cinco unidades em 2026, com uma escala de 20 máquinas em 2027. Embora o movimento reforce a soberania tecnológica chinesa sob a gestão de Xi Jinping, especialistas apontam que a iniciativa ainda não ameaça a posição dominante da empresa holandesa ASML no mercado global. O desenvolvimento é um marco importante na tentativa de Pequim de contornar restrições internacionais e fortalecer sua infraestrutura local de semicondutores.
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