EUA suavizam projeto de lei sobre chips mas mantêm restrições a DUV da ASML
TrendForce: Versão revisada do MATCH Act remove restrições a etch criogênico mas mantém bloqueio a DUV da ASML para China.
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17/04 às 09:00
Pontos principais
- Restrições a ferramentas criogênicas removidas da versão revisada
- Bloqueio a DUV da ASML para China preservado
- Votação no comitê da Câmara marcada para quarta-feira
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