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title: "EVG apresenta litografia por nanoimpressão para chips fotônicos"
url: https://dailyjournal.news/news/2026-09-29/evg-apresenta-litografia-por-nanoimpressao-para-chips-fotonicos
published: 2026-09-29T19:40:33.666515+00:00
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language: pt-BR
publisher: "Daily Journal"
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# EVG apresenta litografia por nanoimpressão para chips fotônicos

A tecnologia NIL promete escalar a produção de circuitos integrados fotônicos ao substituir a litografia por feixe de elétrons.

## Pontos principais

- A litografia por nanoimpressão (NIL) visa substituir a litografia por feixe de elétrons para aumentar o rendimento na fabricação.
- O processo utiliza um molde gravado por e-beam para estampar padrões em wafers, permitindo maior escala de produção.
- A tecnologia é indicada para a criação de estruturas periódicas, como acopladores de grade e matrizes de microlentes.
- Desafios técnicos incluem a necessidade de alinhamento preciso, planicidade do wafer e a degradação do molde ao longo do tempo.

Durante a Semicon Taiwan, a EVG detalhou a aplicação da litografia por nanoimpressão (NIL) na fabricação em massa de circuitos integrados fotônicos e lasers. A técnica busca substituir a litografia por feixe de elétrons (e-beam), utilizando um molde para estampar padrões em wafers e elevar a escala produtiva.

Apesar do potencial, a implementação da NIL enfrenta desafios técnicos significativos, como a exigência de superfícies limpas e o alinhamento preciso. Além disso, a planicidade do wafer e a degradação do molde após usos repetidos permanecem como obstáculos para a adoção plena do método em estruturas como acopladores de grade e matrizes de microlentes.

## Fontes

- [@SemiAnalysis_: In Semicon Taiwan, EVG had described the use of Nano-Imprint Lithography (NIL) in the mass manufacture of Photonic Integrated Circuits and for laser manufacturing. NIL is especiall…](https://x.com/SemiAnalysis_/status/2105009975554674883) (2026-09-29)

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