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title: "MATCH Act suaviza restrições mas mantém proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China"
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published: 2026-04-17T12:00:00+00:00
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language: pt-BR
publisher: "Daily Journal"
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# MATCH Act suaviza restrições mas mantém proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China

Nova versão do projeto de lei americano remove curbs em ferramentas criogênicas mas proíbe litografia DUV para a China; votação na quarta.

## Pontos principais

- Versão revisada remove restrições a ferramentas de gravação criogênica da Lam Research e Tokyo Electron
- Proibição de venda de equipamentos DUV da ASML à China mantida
- Votação no comitê da Câmara marcada para quarta-feira
- Licenças exigidas para manutenção de equipamentos em instalações restritas
- Primeiro-ministro holandês discutiu tema com Trump em jantar na Casa Branca

A nova versão do MATCH Act, projeto de lei americano sobre controle de exportações de equipamentos para chips, suavizou as restrições da versão de início de abril mas mantém a proibição de venda dos equipamentos DUV (litografia ultravioleta profunda) da ASML à China. Restrições a ferramentas de gravação criogênica da Lam Research e Tokyo Electron foram removidas.

A votação no comitê da Câmara de Relações Exteriores está marcada para quarta-feira, junto com mais de uma dezena de outros projetos sobre IA, semicondutores e controles de exportação.

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